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离子注入表面优化技术
文件大小:19MB 标注页数:411页 文件页数:421页
MD5:b9949daf01b14fe7a58f0c3cbdc681d9
ISBN:7502411321
出版社:北京:冶金工业出版社
作者:张通和,吴瑜光编著
出版时间:1993
等离子体浸泡式离子注入与沉积技术
文件大小:103MB 标注页数:239页 文件页数:258页
MD5:193e5a25f50241a3e4b0e512bf2cc302
ISBN:9787118078923
出版社:北京:国防工业出版社
作者:汤宝寅,王浪平编著
出版时间:2012
国外半导体电子束曝光离子注入技术动向
文件大小:7MB 标注页数:34页 文件页数:37页
MD5:610c00dbdb4876c1549660a9ad8c82b0
ISBN:
出版社:上海科学技术情报研究所
作者:上海科学技术情报研究所编写
出版时间:1972