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离子注入技术

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MD5:10f0b3a7ef2eae05b02f13f16dd5a035

ISBN:15033·5248

出版社:北京:机械工业出版社

作者:张光华,钟士谦同编著

出版时间:1982

离子注入原理与技术

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文件大小:16MB 标注页数:365页 文件页数:372页

MD5:b67dcb8d8f4dc9424adc684cd8b77f1b

ISBN:

出版社:北京:北京出版社

作者:北京市辐射中心,北京师范大学低能核物理研究所离子注入研究室编著编著

出版时间:1982

离子注入表面优化技术

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文件大小:19MB 标注页数:411页 文件页数:421页

MD5:b9949daf01b14fe7a58f0c3cbdc681d9

ISBN:7502411321

出版社:北京:冶金工业出版社

作者:张通和,吴瑜光编著

出版时间:1993

离子注入物理

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文件大小:7MB 标注页数:112页 文件页数:118页

MD5:53da6f143a0621350fb2958e3e4eee25

ISBN:15119·2374

出版社:上海:上海科学技术出版社

作者:罗晋生主编

出版时间:1984

离子体浸泡式离子注入与沉积技术

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文件大小:103MB 标注页数:239页 文件页数:258页

MD5:193e5a25f50241a3e4b0e512bf2cc302

ISBN:9787118078923

出版社:北京:国防工业出版社

作者:汤宝寅,王浪平编著

出版时间:2012

国外半导体电子束曝光离子注入技术动向

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文件大小:7MB 标注页数:34页 文件页数:37页

MD5:610c00dbdb4876c1549660a9ad8c82b0

ISBN:

出版社:上海科学技术情报研究所

作者:上海科学技术情报研究所编写

出版时间:1972