微电子制造技术实验教程pdf电子书版本下载

点此进入-本书在线PDF格式电子书下载【推荐-云解压-方便快捷】直接下载PDF格式图书。移动端-PC端通用
种子下载[BT下载速度快] 温馨提示：（请使用BT下载软件FDM进行下载）软件下载地址页 直链下载[便捷但速度慢]   [在线试读本书]   [在线获取解压码]

微电子制造技术实验教程PDF格式电子书版下载

下载的文件为RAR压缩包。需要使用解压软件进行解压得到PDF格式图书。

建议使用BT下载工具Free Download Manager进行下载,简称FDM(免费,没有广告,支持多平台）。本站资源全部打包为BT种子。所以需要使用专业的BT下载软件进行下载。如 BitComet qBittorrent uTorrent等BT下载工具。迅雷目前由于本站不是热门资源。不推荐使用！后期资源热门了。安装了迅雷也可以迅雷进行下载！

（文件页数 要大于 标注页数，上中下等多册电子书除外）

注意：本站所有压缩包均有解压码： 点击下载压缩包解压工具

第1章 基础知识 1

1.1 硅片 1

1.2 清洗 2

1.3 氧化 4

1.4 扩散 7

1.5 离子注入 11

1.6 光刻 13

1.7 刻蚀 18

1.8 化学气相沉积 22

1.8.1 APCVD 22

1.8.2 LPCVD 23

1.8.3 PECVD 25

1.9 物理气相沉积 29

1.9.1 蒸发 29

1.9.2 磁控溅射 31

第2章 基础工艺实验 33

2.1 清洗工艺实验 33

2.1.1 实验目的 33

2.1.2 实验原理 33

2.1.3 实验内容 34

2.1.4 实验设备与器材 34

2.1.5 实验步骤 34

2.1.6 注意事项 35

2.1.7 思考题 35

2.2 氧化工艺实验 35

2.2.1 实验目的 35

2.2.2 实验原理 36

2.2.3 实验内容 37

2.2.4 实验设备与器材 37

2.2.5 实验步骤 37

2.2.6 注意事项 38

2.2.7 思考题 38

2.3 扩散工艺实验 39

2.3.1 实验目的 39

2.3.2 实验原理 39

2.3.3 实验内容 40

2.3.4 实验设备与器材 40

2.3.5 实验步骤 40

2.3.6 注意事项 41

2.3.7 思考题 41

2.4 离子注入实验 41

2.4.1 实验目的 41

2.4.2 实验原理 41

2.4.3 实验内容 43

2.4.4 实验设备与器材 43

2.4.5 实验步骤 43

2.4.6 注意事项 43

2.4.7 思考题 43

2.5 光刻实验 44

2.5.1 实验目的 44

2.5.2 实验原理 44

2.5.3 实验内容 44

2.5.4 实验设备与器材 45

2.5.5 实验步骤 45

2.5.6 注意事项 45

2.5.7 思考题 45

2.6 湿法刻蚀工艺实验 46

2.6.1 硅刻蚀 46

2.6.2 湿法刻蚀实验 48

2.6.3 氮化硅的刻蚀 50

2.6.4 铝刻蚀 52

2.7 干法刻蚀实验 53

2.7.1 实验目的 53

2.7.2 实验原理 54

2.7.3 实验内容 56

2.7.4 实验设备与器材 56

2.7.5 实验步骤 56

2.7.6 注意事项 58

2.7.7 思考题 58

2.8 化学气相沉积实验 58

2.8.1 LPCVD制备Si3N4、SiO2薄膜及非晶硅薄膜 58

2.8.2 PECVD制备Si3N4、SiO2薄膜及非晶硅薄膜 60

2.9 金属薄膜制备实验 63

2.9.1 电子束蒸发工艺实验 63

2.9.2 磁控溅射工艺实验 65

2.10 金属剥离工艺实验 68

2.10.1 实验目的 68

2.10.2 实验原理 68

2.10.3 实验内容 69

2.10.4 实验设备与器材 69

2.10.5 实验步骤 70

2.10.6 注意事项 70

2.10.7 思考题 70

第3章 基础测试实验 71

3.1 物理性能测试实验 71

3.1.1 SiO2厚度测试实验 71

3.1.2 方块电阻的测量实验 74

3.1.3 结深的测量实验 78

3.2 电学性能测试 80

3.2.1 晶圆级二极管性能测试实验 84

3.2.2 晶圆级双极型晶体管性能测试实验 86

3.2.3 晶圆级MOS管性能测试实验 89

第4章 微电子制造综合实验 93

4.1 二极管制造实验 93

4.1.1 实验目的 93

4.1.2 实验原理 93

4.1.3 实验内容 97

4.1.4 实验设备与器材 97

4.1.6 实验注意事项 99

4.1.7 思考题 99

4.2 肖特基二极管制造试验 100

4.2.1 实验目的 100

4.2.2 实验原理 100

4.2.3 实验内容 102

4.2.4 实验设备与器材 103

4.2.5 实验步骤 103

4.2.6 实验注意事项 104

4.2.7 思考题 104

4.3 三极管制造实验 104

4.3.1 实验目的 104

4.3.2 实验原理 105

4.3.3 实验内容 109

4.3.4 实验设备与器材 109

4.3.5 实验步骤 109

4.3.6 实验注意事项 111

4.3.7 思考题 111

4.4 CMOS管制造实验 111

4.4.1 实验目的 111

4.4.2 实验原理 111

4.4.3 实验内容 116

4.4.4 实验设备与器材 116

4.4.5 实验步骤 117

4.4.6 实验注意事项 118

4.4.7 思考题 119

4.5 集成电阻器制造实验 119

4.5.1 实验目的 119

4.5.2 实验原理 120

4.5.3 实验内容 124

4.5.4 实验设备与器材 124

4.5.5 实验步骤 124

4.5.6 实验注意事项 126

4.5.7 思考题 126

4.6 集成运算放大器参数测试实验 126

4.6.1 实验目的 126

4.6.2 实验原理 127

4.6.3 实验内容 128

4.6.4 实验设备与器材 128

4.6.5 实验步骤 129

4.6.6 思考题 134

4.7 逻辑IC功能和参数测试实验 134

4.7.1 实验目的 134

4.7.2 实验原理 134

4.7.3 实验内容 146

4.7.4 实验设备与器材 147

4.7.5 实验步骤 148

4.7.6 思考题 152

主要参考文献 153