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绪论--跨世纪的信息材料 干福熹 1

0.1 21世纪是信息时代 1

0.2 信息技术的发展趋势 3

0.3 信息技术发展的几个主要方面及相关材料 4

0.4 信息材料产业及其展望 27

参考文献 33

第1章 微电子芯片技术发展对材料的需求 王阳元 34

1.1 概述 34

1.2 衬底材料 36

1.3 栅结构材料 39

1.4 存储电容材料 42

1.5 局域互连材料 47

1.6 互连材料 48

1.7 钝化层材料 56

1.8 集成电路关键加工工艺之一--光刻和刻蚀技术对材料的要求 58

1.9 集成电路关键加工工艺之二--化学机械抛光技术对材料的要求 60

参考文献 64

第2章 半导体光电材料 李爱珍 68

2.1 半导体光电材料的发展 68

2.2 半导体激光器材料 71

2.3 新型半导体光电探测器材料 106

2.4 光电子集成电路及光子集成电路材料 122

参考文献 130

3.1 有机光电子材料的分子光化学基础 135

第3章 有机光电子材料 吴世康 135

3.2 光异构化反应及双稳态体系 145

3.3 有机非线性光学材料的进展 149

3.4 有机及高分子电致发光材料的新进展 155

3.5 有机光信息存储材料的进展 171

3.6 可擦光盘的有机光化学材料 176

参考文献 181

第4章 信息功能陶瓷材料及应用 李龙土 184

4.1 电子片式元件及材料 185

4.2 压电陶瓷驱动器与超声微马达 192

4.3 复合与复相信息功能陶瓷材料与器件 203

4.4 软化学制备与信息功能陶瓷薄膜 207

4.5 半导体陶瓷材料与信息敏感技术 213

4.6 信息功能陶瓷与器件的集成化、机敏化 216

4.7 微波介质陶瓷与近代通信技术 219

4.8 电子封装陶瓷基片材料 222

4.9 信息功能陶瓷若干应用基础研究 224

参考文献 225

第五章 信息传感材料 王渭源 227

5.1 半导体材料 228

5.2 陶瓷传感器材料 242

5.3 高分子传感材料 254

5.4 光纤材料 264

参考文献 269

6.1 显示技术的发展趋势 274

第6章 光电显示材料 黄锡珉 274

6.2 CRT发光材料 279

6.3 FED材料 284

6.4 PDP材料 286

6.5 EL材料 290

6.6 LED材料 297

6.7 LCD材料 306

参考文献 326

第7章 光纤通信材料 简水生 328

7.1 光纤通信发展的进程 328

7.2 石英通信光纤材料 332

7.3 特种光纤材料 342

7.4 光纤放大器材料 346

7.5 光纤光栅材料 355

参考文献 368

第8章 磁性和磁光存储材料 沈德芳 372

8.1 引言 372

8.2 高记录密度的磁性存储介质 373

8.3 高密度磁性存储磁头材料 382

8.4 磁泡存储材料 396

8.5 高密度磁光存储材料 398

8.6 磁和磁光超高密度记录的极限 416

参考文献 419

第9章 高密度光信息存储材料 干福熹 423

9.1 光盘存储技术的发展趋势及材料的要求 424

9.2 高密度光盘存储材料 430

9.3 超高密度光存储材料 450

参考文献 461

第10章 压电、热释电与铁电材料 肖定全 465

10.1 引论 465

10.2 压电材料与器件 469

10.3 热释电材料与器件 483

10.4 铁电材料与应用 487

10.5 铁电薄膜 503

10.6 环境协调性压电铁电材料 524

10.7 展望 531

参考文献 533

第11章 非线性光学晶体材料 陈创天 537

11.1 非线性光学谐波器件设计原理及其对晶体材料的要求 537

11.2 非线性光学晶体发展历史回顾 550

11.3 几种重要的非线性光学晶体 562

11.4 非线性光学晶体的应用 586

参考文献 598

第12章 固体激光材料的进展 邓佩珍 608

12.1 纤维激光器和放大器材料 609

12.2 可调谐激光晶体 620

12.3 半导体激光泵浦的固体激光材料 633

12.4 惯性约束核聚变所用激光材料 652

参考文献 665