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第一章　高分辨率刻蚀 1

1.1　引言 1

目录 1

1.2　改进刻蚀技术的必要性 2

1.3　电子束刻蚀 10

1.4　高分辨率刻蚀的技术长处 17

1.5　电子束刻蚀的限制 23

1.6　经济因素 41

1.7　刻蚀工艺的现状和前景 50

1.8　本书的内容 54

参考文献 55

2.1 引言 58

第二章　电子束工艺 58

2.2 电子在固体中的散射 60

2.3　抗蚀剂图形 77

2.4 电子抗蚀剂的特性 92

2.5　采用电子抗蚀剂的工艺过程 109

2.6　电子束对准 128

2.7 小结 137

参考文献 139

第三章　电子束刻蚀的设备 142

3.1 一般描述 142

3.2　电子光学镜筒 145

3.3 机器的设计和工作方式 174

3.4 目前机器设备的技术水平 198

参考文献 215

第四章　用电子束刻蚀制造器件 218

4.1　概述 218

4.2　光刻蚀与电子束刻蚀的比较 219

4.3　电子束刻蚀的特点 223

4.4　用电子束刻蚀制造电子器件 236

4.5　电子束刻蚀的工艺限制 251

4.6　小结 256

参考文献 257

第五章　用电子束刻蚀制造掩模 259

5.1　引言 259

5.2　掩模制造的要求 261

5.3　掩模制造的方法 269

5.4　材料的选择 278

5.5　工艺过程 285

5.6　性能 296

5.7　展望 305

参考文献 307

第六章　复制技术 310

6.1 引言 310

6.2　复制系统的物理基础 313

6.3　复制系统的种类 319

6.4　几种复制方法的比较 353

参考文献 355