光致抗蚀剂 光刻胶pdf电子书版本下载

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目录 1

第一章　光致抗蚀剂简介 1

一、光刻工艺与光致抗蚀剂 1

二、光致抗蚀剂的种类 5

第二章　光致抗蚀剂的类型、感光机理和感光度 8

一、光致抗蚀剂的类型及其感光机理 8

二、光致抗蚀剂的感光度 47

第三章　光刻工艺 62

一、粘附 62

二、光刻胶的光谱特性与最佳曝光条件 71

三、涂胶与涂层厚度 86

四、前烘焙与后烘焙 89

五、腐蚀 92

六、去胶 101

七、清洁 107

第四章　几种光致抗蚀剂的制备 115

一、聚乙烯醇肉桂酸酯光致抗蚀剂 115

二、PCDA-053光致抗蚀剂 120

三、环化橡胶型光致抗蚀剂 129

四、聚酯型光致抗蚀剂 141

五、701正性光致抗蚀剂 153

第五章　光致抗蚀剂的某些新发展与展望 161

一、用于电子束曝光的光致抗蚀剂 161

二、由聚合物涂层曝光直接腐蚀薄膜 166

三、耐高温的光致抗蚀剂 168

四、由表面光聚合形成光致抗蚀剂 169

五、由单体直接聚合成感光性树脂 171

六、光致抗蚀剂“胶卷” 174

七、光敏化电荷转移聚合 175

八、感光性树脂增感的研究 176