离子束技术及应用pdf电子书版本下载

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第一章 电子轰击离子源等离子体特性及设计基础 1

第一节 等离子体特性参数 4

第二节 离子源的电效率及气体利用率 28

第二章 离子光学系统及基本设计方法 46

第一节 双栅离子光学系统 48

第二节 谐振电荷交换及束流修正 67

第三节 束流均匀性及特殊离子光学系统 72

第四节 三栅和单栅离子光学系统 80

第五节 栅板热稳定性研究 89

第三章 离子源结构设计优化法 93

第一节 多极场离子源放电室结构及磁场 94

第二节 发散场离子源放电室结构及磁场 107

第三节 其他几种宽束离子源 126

第四章 离子源阴极的设计方法 141

第一节 放电室阴极和浸没式中和阴极 142

第二节 空心阴极 149

第三节 氩等离子体桥式中和器（PBN） 161

第四节 磁挡板 168

第五章 离子束刻蚀（IBE）工艺基础 172

第一节 IBE在干法刻蚀工艺中的地位 177

第二节 离子溅射效应 179

第三节 IBE刻蚀速率及入射角效应 188

第四节 离子轰击引起的材料损伤和温度效应 217

第五节 工质气体的作用及IBAE方法 225

第六节 离子束刻蚀均匀性及终点检测方法 249

第七节 掩模特性对IM图形轮廓的影响 267

第六章 IBE在器件制造中的应用 271

第一节 离子束刻蚀在多种器件制造工艺中的应用 271

第二节 宽束离子源应用中的一些问题 309

参考文献 314